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UV循環(huán)

一級的光化學反應對溫度變化并不敏感。然而，隨之而來的二級反應的速度則和溫度變化緊密相關。一般來說，隨著溫度升高，反應速度會加快。因此，在UV曝曬試驗過程中，溫度控制就顯得重要，更重要的是要將加速試驗所采用的試驗溫度與材料在實際應用中遭遇的zui高溫度相匹配。在設備中UV的溫度設置可以是從50度到70度中的任何一點，具體取決于光照度水平和室內環(huán)境氣溫。設備的溫度調節(jié)是通過具有微電腦演算功能的控制器來指揮設備內諸如空氣加熱器、水加熱器、等一系列系統(tǒng)來完成。

濕氣循環(huán)

隨著溫度的提高，潮濕對材料的破壞力會急劇增加。因此在潮濕曝曬過程中，溫度控制是zui基本的要求。更進一步說，要產生加*果，就要求在潮濕過程中保持高溫環(huán)境。在設備中冷凝過程溫度設置可以是從40度到70度中的任何一點。